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        電鍍工藝流程(二)

        2022.01.01

        ●  攪拌:攪拌可辨別為空氣攪拌、輪回攪拌、機械攪拌等三項,依槽子之須要特點而重點有異,茲簡介個別性考慮如下:

         a. 空氣攪拌:利用鼓風機為氣源,如利用空壓機。鉛錫合金板在電解工藝中作為陰極導電體,是不溶性極板,非消耗品。

         1、合金成分均勻,無偏析現象。導電能力均勻。

         2、可按用戶要求(尺寸、形狀、鉛錫比例)定制,強度高。延長了陽極的使用壽命。

         3、結構致密。導電性能特優(節電20-30%)提高了鍍層的沉積速度。鍍鉻陽極棒從金屬液由澆鑄系統進入型腔的模擬壓鑄過程的研究中,陽極棒特別是在潮濕環境下晶間腐蝕會使鑄件變形、開裂、甚至破碎。電鍍陽極一固定部、一析出部及一圍繞部,借由其圍繞部有效增加不溶解性陽極面積,而提高陽極的負載能力,并使增加溶解性陽極面積有效作用,不致使鍍液的濃度快速增加,使提供物有效析出于與工件相對之面,增加提供物的有效析出,實際增加電鍍產能,且不會使提供物被卡住以利于補充提供物,因而整體改善使用效果。則須加裝AM 電鍍陽極Regalator降落壓力,并加裝oil Filter除油。風量須依液面名義積盤算,須達1.5~2.0cfm。 

        ●  攪拌:攪拌可辨別為空氣攪拌、輪回攪拌、機械攪拌等三項,依槽子之須要特點而重點有異,茲簡介個別性考慮如下:

        a. 空氣攪拌:利用鼓風機為氣源,如利用空壓機。則須加裝AM Regalator降落壓力,并加裝oil Filter除油。風量須依液面名義積盤算,須達1.5~2.0cfm,而其靜壓則依管路損耗,與液面高度相加而得??諝鈹嚢柚苈芳茉O,離槽底至少應有1英寸間隔,離工件底部,應以大于8英寸為宜。個別多利用3/4英寸或1英寸管,作為主管,亦有人利用多孔管,但較易產生阻塞。開孔方法多采取各孔相間1/2英寸,對邊側開孔,與主管截面積1/3為準則。適量之空氣攪拌可改良電鍍效力,電鍍陽極增加電流密度;但如攪拌適度,亦將形成有機增加劑氧化而造成異樣消耗及沾染。

        b. 電鍍陽極輪回攪拌:在個別應用上,多與過濾體系合件,較須留神的是判斷形成輪回性流動(入、排口位置抉擇),及pump抉擇流量應達2~3倍槽體積1hr以上。

        c. 機械攪拌:其基本功能是為了消除metal ion diffusion rafe不足問題。在空間足夠之狀況下,以45°斜角挪動為佳,但個別都采有用垂直向擺動,較佳的位移量約在0.5~1.8m/min,而每stroke長約5~15cm之間。在設定前提時,應留神不可造成因頻率過高,使板子自身擺動,而減小孔內藥液穿透量。

        ●  過濾:個別均與輪回攪拌合并,目標是去除槽液中之顆粒狀雜質,避免產生顆粒狀鍍層。較重要的考量因子有三,分辨如下:

        a. 過濾粒徑:個別采取5u或10u濾蕊。若非環境把持良好,利用更小濾蕊可能造成濾材調換,損耗過多。

        b. 材質有多種材質供抉擇,不同體系光澤劑會有不同之限度,其中PP最具體廣用性。

        c. Leaching:即便為實用材質之濾蕊,亦須經過Leaching處理(熱酸堿浸洗程序)。

        ●  電源體系:供電體系之ripple須小于5%,(對局部較敏感產品甚至須小于2%),另須留神:

        a. 整流器最上限、最下限絕對輕易10%,系不牢固區域,應避免利用。

        b.除整流器外接所有接點務須按期清潔外,每月至少用鉗表量校一次。

        c.整流器最好利用外接清潔氣源送風,使內部形成至正壓,讓酸氣無奈侵入腐化。

        ●  陰極(rack及bus bar):

        a. 對銅制bus bar而言,約每120Amp至少應設計1cm2之截面積。同時不管電流/bus bar截面積大小,務必兩側設置輸入接點,以避免電流散布不均。

        b. 對rach而言,應利用bus bar相接之接點,調劑其導通一致,避免“局部陽極”的反生,同時對接點外之局部,亦宜全部予以膠林披覆,并按期檢查,以避免因縫隙產生,而增加帶入性沾染。

        ●  陽極:a. 銅陽極應采取含微量磷,且均勻散布之無氧銅。其規格可概列如下:Cu≥99.9% P:0.04~0.06% O≤0.05%Fe≤0.003% S≤0.003% Pb≤0.002%Sb≤0.002% AS≤0.001% N≤0.002%

        b. 可能狀況下盡量不要利用鈦籃,因為鈦籃將造成 Carriey或High Current Dewsity Brightener增加約20%的消耗,而不利用鈦籃的狀況,則須留神使陽極高出液面1~2英寸。

        c. 電鍍陽極對陽極袋的考慮,基本上與濾蕊雷同,個別常用Napped p.p或Dynel,并可考慮雙層利用,唯陽極袋須按期蕩滌,以避免因適量的陽極污泥造成陽極極化。d. 個別均認為陰陽極之比例應在1.5~2∶1,但因為高速鍍槽之推出,較佳的考慮是,把持陽極的絕對電流密度小于20ASF,來決定陽極的數量,在利用鈦籃的狀況,其面積的盤算,約為其(前+左+右)面積之1.4倍,亦即以鈦籃正面積核算其電流密度約應小于40ASF。過大的陽極面積可能造成銅含量之回升,過小則可能造成銅含量不足,且二者均會造成有機增加劑的異樣消耗及陽極塊的碎裂。

        e.陽極在瀕臨液面側應加裝遮板,而深度則應僅為鍍件的75%(較淺4~5英寸),電鍍陽極在板子尺寸不固定時,則應考慮浮動式遮板,對其左右側的考慮亦同,故在槽子設計與生產板實際寬度不同,應考慮利用Rubber strip,但須留神當核算面積,加開電流時,應至少降落40%盤算。對此類散布問題,可能“電場”及“流 態”的觀點考慮電鍍工藝流程資料


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